반도체 공장이 물을 엄청나게 많이 사용하는 이유는 크게 세 가지로 나눌 수 있습니다. 첫째 반도체 제조 과정에서 웨이퍼를 세척하고 불순물을 제거하기 위해 초순수가 필수적으로 필요합니다. 극도로 순수한 물인 초순수는 미세한 먼지나 이온 하나까지 허용하지 않아 막대한 양이 사용됩니다. 둘째 공정 가스 정화 과정에서 유해 물질을 제거하기 위해 물이 사용됩니다. 셋째 클린룸의 온도와 습도를 일정하게 유지하기 위해 물을 이용한 냉각 시스템이 필요합니다. 따라서 반도체 제조는 물을 단순히 사용하는 수준을 넘어 품질을 유지하기 위한 필수적인 요소입니다.