안녕하세요. 김종덕 전문가입니다.
Q. 반도체 공정 중에 이온주입 공정이 있는데 왜 이온주입을 하는지요?
안녕하세요. 김종덕 전문가입니다.이온 주입 공정은 반도체의 전기적 성질을 조절하기 위해 특정 불순물 이온을 실리콘 웨이퍼에 주입하는 기술입니다. 일반적으로 붕소 (B), 인 (P), 비소 (As)와 같은 불순물을 고속으로 웨이퍼에 주입하여 원하는 전기적 특성을 부여합니다. 이 공정은 소자 제작 시 실리콘에 불순물을 주입하기 위해 사용되며, 수십에서 수천 KeV의 에너지를 가지게 하여 실리콘 표면 안으로 수십에서 수만 Å의 깊이까지 이온을 넣을 수 있는 공정입니다.
Q. 반도체를 만드는 웨이퍼 재료는 무엇으로 구성되어 있나요?
안녕하세요. 김종덕 전문가입니다.반도체 웨이퍼는 주로 실리콘으로 만들어집니다. 실리콘은 반도체 특성을 가지고 있어 전자 기기에서 중요한 역할을 합니다. 웨이퍼는 실리콘 잉곳을 얇게 절단하여 만드는데, 이 과정에서 매우 높은 정밀도가 요구됩니다
Q. 반도체 공정중 포토리소 그래피 라는 공정은 무엇을 하는공정인가요?
안녕하세요. 김종덕 전문가입니다.포토리소그래피 공정은 반도체 제조에서 중요한 단계입니다. 이 공정은 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 과정으로, 다음과 같은 주요 단계를 거치는데 웨이퍼 세정 및 표면 처리, 감광제 도포, 노광, 현상 과정을 통해 복잡한 회로 패턴을 정밀하게 만들수 있습니다.
Q. 반도체 공정순서는 어떻게 되는지 궁금합니다.
안녕하세요. 김종덕 전문가입니다.반도체 공정은 매우 복잡하고 정밀한 과정으로 주요 단계를 간단히 설명드리면 웨이퍼 제조, 포토리소그래피, 에칭, 이온 주입, 증착, 패키징 과정을 여러 번 반복하는 겁니다.
Q. 반도체 공정도에서 페시베이션 이라는 공정은 무엇을 하는것인가요?
안녕하세요. 김종덕 전문가입니다.패시베이션 (Passivation) 공정은 금속 표면에 산화 피막을 형성하여 부식을 방지하는 화학적 처리 방법입니다. 주로 스테인리스 스틸에 적용되며, 크롬 산화막을 형성하여 금속을 보호하는 공정입니다.