반도체 클린 공정에서 불산 용액을 쓰는 이유는 무엇인가요?

반도체 공정은 웨이퍼의 막질을 깍거나 막질을 덮는 공정도 있지만 웨이퍼를 클린해주는 공정도 있습니다.

이 클린공정에 불산이 사용되는 이유는 무엇인가요?