반도체 공정 공부를 하다가, Si 웨이퍼의 표면 세정 메커니즘이 궁금해 질문을 남깁니다.
RCA 세정 원리, Megasonic 세정 원리, PVA brush scrubbing 세정 원리에 대해 알려주세요.
감사합니다.
