안녕하세요. 김철승 과학전문가입니다.
EUV는 Extreme Ultraviolet의 약자로
파장이 13.5nm인 극자외선을 이용하는 반도체 공정 기술입니다.
기존의 ArF 공정의 파장 193nm보다 짧아 더 미세한 회로 패턴을 구현할 수 있습니다.
기존 공정보다 짧은 파장을 사용하기 때문에 더 미세한 회로 패턴을 구현할 수 있습니다.
반도체의 성능과 전력 효율을 향상시킬 수 있습니다.
기존 공정보다 웨이퍼 당 생산되는 반도체 칩의 수가 증가하여 수율이 향상됩니다.
기존 공정에 비해 공정 단계가 단순화되어 생산 비용이 절감됩니다.
EUV 공정은 아직 개발 중이지만 차세대 반도체 공정의 핵심 기술로 주목받고 있습니다.
삼성전자 TSMC 인텔 등 주요 반도체 제조사들은 EUV 공정을 도입하기 위해 노력하고 있습니다.
EUV 공정 장비는 매우 고가로 도입 비용이 많이 들며 매우 정밀하게 설계되어 있어 유지 보수가 어렵습니다.
EUV 공정에서 발생하는 회로 패턴 오류는 기존 공정보다 복잡하고 수정이 어렵습니다.
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