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EUV (Extreme Ultraviolet Lithography)는 현재 진행 중인 반도체 공정에서 사용되는 광학기술로, 더욱 정교한 칩 제작을 가능하게 합니다. EUV 장비는 13.5나노미터 길이의 광선을 사용하여 미세한 회로를 적용하는 데에 사용됩니다. 이전 기술에 비해 EUV 기술은 더욱 정밀한 칩 제작이 가능하며, 회로 패턴의 복잡도도 높아집니다. EUV 기술은 또한 더 높은 생산성과 낮은 제작 비용을 제공합니다. 이러한 이유로, EUV 기술은 현재 반도체 제조 분야에서 매우 중요한 기술 중 하나입니다.
