반도체 EUV는 어떤 방식의 장비이고 장점은 무엇인가요?
반도체 분야의 소자는 점점 작아지고 있고 기술은 점점 발전하고 있습니다.이에 필수인 장비가 포토 장비인데
EUV 기술이 화두에 있습니다.
근데 EUV장비는 반도체 회로가 기존보다 복잡하지 않은
방식이라는데 어떤 장비이고 장점은 무엇인가요?
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1개의 답변이 있어요!안녕하세요. 상록수7입니다.
EUV (Extreme Ultraviolet Lithography)는 현재 진행 중인 반도체 공정에서 사용되는 광학기술로, 더욱 정교한 칩 제작을 가능하게 합니다. EUV 장비는 13.5나노미터 길이의 광선을 사용하여 미세한 회로를 적용하는 데에 사용됩니다. 이전 기술에 비해 EUV 기술은 더욱 정밀한 칩 제작이 가능하며, 회로 패턴의 복잡도도 높아집니다. EUV 기술은 또한 더 높은 생산성과 낮은 제작 비용을 제공합니다. 이러한 이유로, EUV 기술은 현재 반도체 제조 분야에서 매우 중요한 기술 중 하나입니다.