반도체를 만드는 공정에서 산화공정이라는 것은 왜 하는것이고 어떤 과정인지 궁금합니다.

Question

반도체를 만드는 공정을 나름 공부중입니다. 그 중에서 2번째 공정이라고 불리우는 산화공정이라는 것은 왜 하는것이고 어떤 과정인지 알기쉽게 설명해주시면 감사하겠습니다.

Answer 1

안녕하세요. 이상현 과학전문가입니다.

산화공정은 전류가흐르는 도선의 흐름을 원활히 해주기위해 해주며, 전선에 피복을 씌우는것과 같은 이유입니다.

산화된물체는 전기저항성이 커진다는것을 이용한것입니다.

Answer 2

안녕하세요. 김태헌 과학전문가입니다.

반도체의 산화공정이란 웨이퍼 표면에 실리콘 산화막을 형성하는 과정을 말함. 산화막의 역할은 공정에서 발생하는 불순물로부터 실리콘 표면을 보호하기 위함임.

Answer 3

안녕하세요. 김태경 과학전문가입니다.

산화공정을 거치는 이유는 웨이퍼에 절연막 역할을 하는 산화막(SiO₂)을 형성해 회로와 회로사이에 누설전류가 흐르는 것을 차단하기 위해서 입니다. 산화막은 또한 이온주입공정에서 확산 방지막 역할을 하고, 식각공정에서는 필요한 부분이 잘못 식각되는 것을 막는 식각 방지막 역할도 합니다

Answer 4

안녕하세요. 홍성택 과학전문가입니다.

아주 간단하게 말씀드리면 산화막이 형성되면 불순물을 차단하고 회로와 회로사이에 누설전류가 흐르는 것을 차단하며 이온주입공정에서 확산방지막 역할을 하게 됩니다.

또한 식각 공정에서 잘못 식각되는 것도 막아주게 됩니다.

즉, 보호막이라고 생각하시면 됩니다.

도움되셨다면 추천 부탁드립니다.

Answer 5

안녕하세요. 김학영 과학전문가입니다. 산화공정은 반도체 소재인 실리콘(Silicon)을 산소와 반응시켜 실리콘 산화막(Silicon Oxide)을 형성하는 과정입니다. 이 산화막은 반도체 소자에서 절연층(insulating layer) 역할을 수행합니다. 반도체 소자의 다양한 부분을 분리하고 전기적인 절연을 제공하여 소자 간의 전기적인 상호작용을 방지합니다.