안녕하세요. 김용균 치과의사입니다.
치석이란 치면세균막(덴탈 플라그)이 타액과 치은열구 내의 칼슘(Ca), 인(P)등의 무기질이 침착되어 만들어진 것을 말한다. 구성 성분은 무기물 75%, 유기물 6~15%이고 나머지가 수분이다. 균막(pellicle) 형성을 기초로 세균막(덴탈 프라그)이 성숙이 되고 이어 무기질화(칼슘, 인, 마그네슘, 불소)된 후에 결정체가 형성된다.
덴탈 플라그(치면세균막)의 침착 기전은 다음과 같다.
첫 번째 단계에서는 무균 상태의 후천성 엷은 막이 생성되고,
두 번째 단계에서는 이 엷은 막에 미생물이 부착, 성숙되고, 미생물과 치은 박리세포, 백혈구 및 음식물 잔사들이 피막에 부착되어 성숙되어 가는 과정이 발생한다.
24시간 경과 후에 호기성구균과 간균이 80~90%를 차지하며, 호기성구균(그람양성세균으로 세균 중 산소를 좋아하는 세균)보다 점차 혐기성세균(그람음성세균으로 세균 중 산소가 없는 곳을 좋아하는 세균)의 증가가 일어난다.
마지막으로 치은(잇몸) 조직에 염증을 일으킨다. 또 치석은 치면세균막이 형성된 지 48시간 후 석회화가 시작되고 24시간 후에는 50%가 석회화되며, 12일이 경과한 후 6090%가 석회화되는(모두가 석회화하는 것은 아님) 과정을 거쳐 형성된다.