안녕하세요. 서종현 전문가입니다.
반도체 포토 공정에서 네덜란드 A사(ASML)가 핵심 장비를 독점하는 상황은 글로벌 산업 구조에서 매우 중요한 이슈입니다. ASML의 EUV(극자외선)노광 기술은 반도체 미세 공정에 필수적인 고난도 기술로, 개발과 생산에 막대한 시간과 비용, 첨단 기술이 요구되어 경쟁사가 쉽게 진입하기 어렵습니다.
이에따라 여러 국가에서는 국책사업과 협력연구를 통해 반도체 장비 기술 개발을 촉진하고 있지만, ASML같은 기업 수준의 장비를 단기간에 확보하는 것은 쉽지 않은 상황입니다. 한국, 일본, 중국 등도 반도체 산업의 경쟁력을 높이기 위해 소재 · 부품 · 장비 기술 개발에 막대한 투자를 하고 있으며, 국가 차원의 지원과 산학연 협력도 활발합니다.
따라서 현재 독점 구조가 단점으로 보일수있지만, 장기적으로는 각국의 기술 자립과 다변화를 위한 연구 개발이 이어지고 있기 때문에 점진적으로 변화가 기대됩니다. 이런점에서 국책사업과 민간 기술 개발의 균형이 중요하다고 할수있겠습니다.