반도체 노광공정에서 포토레지스트는 웨이퍼 표면에 미세한 회로패턴을 형성하는데 핵심적인 역할을 합니다. 포토레지스트는 빛에 민감한 물질로 특정 파장의 빛에 노출되면 화학적 성질이 변합니다. 노광공정에서는이 특성을 이용해 원하는 회로패턴을 웨이퍼에 전사합니다. 이후 현상 과정을 통해 노출된 부분과 노출되지 않은 부분을 선택적으로 제거하여, 정확한 패턴을 형성합니다. 포토레지스트의 중요성은 매우 크며, 회로의 미세화와 정밀도 그리고 최종 제품의 성능과 품질을 결정짓는 핵심 요소입니다