포토레지스트는 반도체 공정에서 어떤 역학을 하나요?
안녕하세요
반도체 생산 공정에서 포토레지스트는 필수재료라고 알려져 있는데요
어떤 공정에 무슨 역할로 쓰이길래 꼭 필요한 재료인가요??
안녕하세요. 김태경 과학전문가입니다.
포토 공정이란 웨이퍼에 반도체 회로를 그리는 작업으로, 패터닝이라고 생각하면 됩니다
회로를 그린 마스크를 씌워 포토레지스트를 쏘아서 회로가 그려지도록 하는 것입니자
안녕하세요. 이상현 과학전문가입니다.
포토레지스트는 구조물의 패터닝을 위해 사용되거나 구조물을 깎기위해 깎이면안되는 부분을 덮어주는 희생층 역할을하기도합니다.
액체상태로 도말하기 편하고 자외선을 을쬐어주고 가열하면 단단하게 굳거나 녹는 특성이 있으며, 솔벤트에 의해 잘 용해되는 특성이 있어 반도체공정에서는 편리한 도구입니다.
감사합니다.
광각 형성 과정은 미리 설계된 반도체 회로 패턴을 반도체 웨이퍼 상에 전달하기 위해 사용됩니다. 이 과정에서 포토레지스트는 웨이퍼의 표면에 적용됩니다. 포토레지스트는 미리 설계된 회로 패턴에 따라 반도체 웨이퍼를 미리 정의된 영역으로 마스킹하고, 이후에 진행되는 에칭 과정에 사용됩니다.
광각 형성 과정에서는 먼저 반도체 웨이퍼 표면에 포토레지스트를 적용합니다. 그런 다음 마스크 패턴과 함께 노광 장비를 사용하여 웨이퍼에 빛을 비추면, 포토레지스트는 빛의 영향을 받아 화학적 변화를 일으킵니다. 이러한 화학적 변화로 인해 포토레지스트는 노광 과정에서 노출된 영역과 그렇지 않은 영역으로 나뉘게 됩니다.
노광 후, 포토레지스트 패턴에 따라 웨이퍼를 에칭 과정에 투입합니다. 에칭은 반도체 웨이퍼의 표면에 적용된 포토레지스트 패턴을 따라 반도체 소자를 정의하는 프로세스입니다. 포토레지스트 패턴을 따라 표면이 부분적으로 제거되고, 이후 다른 공정 단계를 통해 회로 구성 요소가 형성됩니다.
