안녕하세요. 김민준 경제·금융전문가입니다.
EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) 장비는 반도체 제조에서 사용되는 광학 노광 장비입니다. EUV 장비는 더욱 미세한 직경의 반도체 칩을 생산하기 위해 필요합니다. 이전에는 193나노미터 광원이 사용되었으나, 이제는 EUV 광원을 사용하며, 이는 13.5나노미터 파장의 광선을 사용합니다.
반도체 제조에서 EUV 장비는 칩을 만드는 과정에서 반도체 판에서 모양을 나타내는 회로도를 노광하기 위해 필요합니다. 이를 위해서는 매우 짧은 파장의 광선이 필요하며, EUV 광원을 사용하면 더욱 정밀한 회로도를 만들 수 있습니다. 이는 반도체 칩이 더욱 높은 밀도와 더욱 높은 처리 속도를 갖게 하며, 더욱 성능이 좋은 반도체 칩을 만드는 데 기여합니다.
EUV 장비는 광원이 매우 짧은 파장이기 때문에 광학 시스템 자체도 매우 복잡합니다. 이러한 복잡성은 장비의 제작과 유지 보수에 있어서 매우 어렵고 비용이 많이 드는 요인 중 하나입니다. 그러나 EUV 장비가 없다면, 더이상 작아지지 못하는 반도체 칩을 만드는 것은 매우 어려워질 것입니다.
