반도체 tcp rf의 역할좀 알려주십시요
반도체 엔지니어에 관심있는 사람입니다.
플라즈마에서 tcp rf의 역할좀 알려주십시요.
또한 가스들이랑 반응해서 어떤식으로 식각을 하는건지도 좀 부탁드립니다
안녕하세요. 김철승 과학전문가입니다.
반도체 엔지니어에게 TCP
RF는 매우 중요한 기술입니다.
TCP RF는 고주파(RF) 전류를 이용하여
플라즈마를 발생시키는 기술입니다.
플라즈마는 기체가 전기적으로 이온화된
상태로 반도체 공정에서
식각 증착 계면처리 등 다양한
용도로 사용됩니다.
TCP RF의 역할은 다음과 같습니다.
플라즈마를 발생시킵니다.
플라즈마의 밀도를 높입니다.
플라즈마의 온도를 높입니다.
TCP RF를 이용한 플라즈마 식각은
다음과 같은 과정을 거칩니다.
TCP RF를 이용하여
플라즈마를 발생시킵니다.
플라즈마에 식각 대상
물질과 식각 가스를 공급합니다.
식각 가스는 플라즈마와
반응하여 활성 종을 형성합니다.
활성 종은 식각 대상
물질과 반응하여 식각을 일으킵니다.
식각 가스와 플라즈마의 반응은 다음과
같이 나타낼 수 있습니다.
식각 가스 + 플라즈마 → 활성 종
활성 종은 가벼운 원자 원자단 자유전자 등으로
식각 대상 물질과 반응하기 쉽습니다.
플루오린(F)은 매우 반응성이 높은 원소로 플루오린
가스는 플라즈마와 반응하여
플루오린 라디칼(F*)을
형성합니다.
플루오린 라디칼은 실리콘과 반응하여
실리콘 플루오라이드(SiF4)를 생성합니다.
Si + F* → SiF4
이러한 반응을 통해 식각 대상 물질이
제거되는 것입니다.
TCP RF를 이용한 플라즈마
식각은 다음과 같은 장점이 있습니다.
식각 속도가 빠릅니다.
식각의 선택성이 높습니다.
식각 균일도가 우수합니다.
따라서 반도체 공정에서 다양한 용도로
사용되고 있습니다.
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