안녕하세요. 조일현 전문가입니다.
1나노 공정의 벽을 넘을 가능성이 있다고 보여 집니다.
현재 반도체 업계는 기존 기술의 한계를 극복하기 위해 새로운 구조와 방식을 지속적으로 연구하고 있으며,
관련기술로는 2D 소재 활용한 실리콘 대신 비스무트와 같은 반금속 원소를 사용하여 , 1나노 공정의 난제를
해결하고자 하며 ,현재 낸드플래시뿐만 아니라 시스템반도체와 D램에서도 수직 적층 기술이 개발되고 있습니다.
대락적으로 1나노미터 반도체의 구현 시기를 2029년 정도로 보고있으며,
위와 같은 새로로운 구조나 방식의 진화된 반도체가 등장 할것으로 보이기에
1나노 공정의 벽을 넘을 가능성은 충분하다고 보여 집니다.