고등학생이구요 반도체 공정에 대해서 조사하다가 반도체공정과정에서 유해물질이 나옴을 알게 되었습니다. 이런 유해물질 중 질소를 제거하는 방법으로는 퍼지 공정 시스템을 이용하면 된다고 하는데 사실인가요? 제가 질문드린 것 중 오류 있으면 지적 부탁드립니다.
안녕하세요. 안예진 과학전문가입니다.
반도체 공정 진행 시 유해물질이 나오는데, 보통 이 유해물질들을 질소로 퍼지를 진행합니다. (질소는 반응성이 작아 비교적 무해합니다)
