고등학생이구요 반도체 공정에 대해서 조사하다가 반도체공정과정에서 유해물질이 나옴을 알게 되었습니다. 이런 유해물질 중 질소를 제거하는 방법으로는 퍼지 공정 시스템을 이용하면 된다고 하는데 사실인가요? 제가 질문드린 것 중 오류 있으면 지적 부탁드립니다.
