반조체 식각 공정 헬륨 가스 좀 문의드립니다.
식각공정 진행중 헬륨가스가 웨이퍼의 아랫면에서
cooling 역할을 한다고 합니다.
이 쿨링 역할이 어떤 의미이며 왜 헬륨 가스가 사용되는 건가요?
안녕하세요. 행복한강성가이버입니다.
다음을 참고하시기 바랍니다.
반도체 및 디스플레이의 식각 공정은 필요한 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 공정으로, 식각가스는 반도체 선폭 미세화 및 고해상도 디스플레이에 필요한 미세회로 패턴 구현을 위한 정밀 식각에 사용됩니다.
출처 : SK 스페셜리티
https://www.skspecialty.com/new/kor/html/products/Business05.asp
