전문 분야가 아니라 이것저것 공부중에 궁금사항이 있어서 질문드립니다.

Question

일반적인 철 소재에 금속을 도금하는 방법중에 전통적으로 고온에서 도금재를 녹이거나 전기를 걸어서 하는

용용도금이나 전기도금이 아닌 피도금체를 이온화증착시켜서 하는 도금에 CVD와 PVD가 있다고 하는데..

이 둘의 개념과 차이점에 대해 궁금하며, 가능하면 쉽게 설명 해주시면 감사하겠습니다.

Answer 1

CVD와 PVD는 둘 다 금속 도금 기술이지만, 서로 다른 원리와 방법을 사용하여 금속을 도금하는 방식입니다. 간단하게 설명하면 다음과 같습니다:

1. CVD (Chemical Vapor Deposition): CVD는 화학기상증착의 약자로, 화학적인 반응을 통해 금속을 기체 상태로 만들어 물체의 표면에 증착시키는 공정입니다. 일반적으로 금속의 전구체인 화학기체나 금속 유기화합물을 고온으로 가열하여 증발시키고, 이 기체 상태의 금속 분자들이 물체의 표면에 이온화되어 증착됩니다. 이로써 얇은 금속 막을 형성할 수 있습니다.

2. PVD (Physical Vapor Deposition): PVD는 물리적 기상증착의 약자로, 금속을 이온화하여 기체 상태로 만든 후 물체의 표면에 충돌시켜 증착시키는 공정입니다. 기체로 만든 금속 이온을 높은 속도로 충돌시켜 이온이 물체 표면에 결정화되어 얇은 금속 층을 형성합니다.

차이점:

• CVD는 화학 반응을 통해 금속을 증착시키는 방식이며, PVD는 물리적 충돌을 통해 증착시키는 방식입니다.

• CVD는 금속의 화학 반응을 사용하기 때문에 원하는 물질의 특성을 더욱 다양하게 조절할 수 있는 경우가 많습니다.

• PVD는 기체로 만든 금속 이온을 충돌시켜 증착하기 때문에 주로 얇은 금속 막을 만들 때 사용됩니다.

두 기술 모두 금속 도금을 위한 고급 기술로 사용되며, 화학적 반응과 물리적 충돌을 활용하여 얇은 금속 층을 만들어 다양한 용도에 활용할 수 있습니다.