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반도체공정과 디스플레이 공정 비슷한 점

안녕하세요.

반도체 공정에서 디스플레이 공정과 유사하거나 같은 내용은 뭐가 있을까요?

포토공정, 엣치, 증착, 확산 이외에도 뭐가 더 있고 세부적으로는 어떤게 있는지 궁급합니다.

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4개의 답변이 있어요!
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  • 안녕하세요. 김재훈 전문가입니다.

    반도체 공정과 디스플레이 공정은 포토리소그래피 증착 식각 이온주입 등의 공정에서 유사성이 많습니다 세부적으로 포토공정 내 노광 현상 애싱 증착의 경우 ALD , PECVD 스퍼터링 등이 있으며 식각에서는 드라이 및 웻 시각이 있고 클린 공정과 CMP 도 공통적으로 사용됩니다 디스플레이는 비교적 대면적 기판 처리와 박막 위주이며 반도체는 수 나노 단위의 정밀도가 중요한 차이점 입니다

  • 안녕하세요. 박재화 박사입니다.

    반도체 공정과 디스플레이 공정은 유사한 공정들이 많이 있습니다. 포토, 식각, 세정, 평탄화 등의 다양한 공정들이 공유되고 있죠. 일반적으로 포토 공정 내에는 스핀코팅이나 노광, 현상 등과 식각에 있어서도 건식이나 습식 공정 등이 있습니다. 증착은 CVD, PVD가 대표적인 공정이고, 박막의 균일도 및 정밀도를 맞추기 위한 표면 평탄화 CMP 또한 핵심적인 역할을 합니다.

  • 안녕하세요. 김경욱 전문가입니다.

    반도체와 디스플레이 공정은 박막 증착, 포토리소그래피, 식각, 이온주입 등에서 유사하며, 고청정 클린룸 환경에서 수행된다는 점도 같습니다. 세부적으로 정렬, 평탄화, 세정, 검사 공정도 유사하게 활용됩니다. 단, 디스플레이는 대면적 유리기판을 다루며 TFT 구조 중심이고, 반도체는 고집적 회로 패턴이 핵심이라는 차이가 있습니다.

  • 안녕하세요. 김찬우 전문가입니다.

    반도체와 디스플레이는 얇은 막과 패턴을 만드는 방식은 동일합니다.

    알고계신데로 포토, 식각, 증착이 비슷합니다

    증착을 시킬 때 이것을 화학적으로 증착시키는냐 물리적으로 증창시키느냐도 비슷합니다.

    그리고 클리닝을 하는 공정도 유사합니다. 이것은 습식으로 할지 건식으로 할지, 아니면 물리적으로 세정할지도 유사합니다.

    그리고 패턴을 명확하기 하기 위한 클리닝 후의 평탄화 작업인데 이것은 보통 화학적인 방법을 사용하여 평탄화를 시키게 됩니다.

    그럼 답변 읽어주셔서 감사드립니다~! 더 궁금한게 있으시면 언제든지 문의 주십시요:)