반도체 생산기술에 있어 2나노미터와 3나노미터의 차이가 궁금

Question

대만의 TSMC가 오해 3나노공정을 양산화하고 25년부터 2나노공정을 상용화 한다고 발표했는데 2나노와 3나노 공정의 차이는 무엇이며 나노공정은 끝없이 향상할수 있는 것인지 궁금합니다

Answer 1

안녕하세요. 과학전문가입니다.

반도체에서 말하는 나노미터는 선폭이라고 보시면 되는데 선폭이 작을수록 특정 면적에 많은 데이터를 넣을 수 있습니다.

그래서 많은 기업에서 최소한으로 줄이고자 노력을 하고 있는 것입니다.

하지만 미세공정은 빛의 굴절 등으로 인해서 공정을 하기 굉장히 어려워 쉽게 낮추기가 어렵습니다.

Answer 2

안녕하세요.

간단하게 말씀드리면 동일 웨이퍼에서 생산되는 미세공정차이이며 나노 수치가 감소할수록 동일웨이퍼에서 생산량은 늘어나며, 비례하여 성능도 좋아지는 추세입니다 물론 AMD,인텔같은 펩리스사의 칩설계능력이 뒷받침되어야하겠지만 현재까지 나노수치의 감소는 성능향상을 가지고 왔습니다

현재 3나노공정이 본격화되고 있는데 점점 공정단위가 전자수준까지 내려가면서 곧 한계에 도달할것으로 보고있으며, 앞으로는 칩설계와 공정최적화가 더욱 중요해지는것으로 알고 있습니다

Answer 3

나노 공정이 끝없이 향상될 수 있을지는 아무도 알 수 없습니다.

사실 14나노때만해도 10이하로 가는 것은 상상도 못했으나,

많은 연구 끝에 현재 2 ~ 3 나노까지 오게 되었습니다.

인간이 점점 알게 되는 것이 많아지면서 기술장벽을 뚫을 수 있기 때문에

몇 나노 공정까지 가능할지 아무도 알 수 없습니다.

Answer 4

안녕하세요. 김두환 과학전문가입니다.

3나노 공정은 전기회로 선폭이 3nm인 기술을 의미합니다. 선폭을 줄이는 기술로 반도체의 크기도 함께 줄일 수 있죠. 나노공정을 끝없이 향상할 수 있는 것은 아닙니다. 선폭을 줄여 전기회로를 만들 때 우리가 컨트롤 할 수 있는 제한적인 경계가 존재합니다. 얇게 만들었는데 전류가 흐르지 않을 수도 있기 때문이죠. 또한 3nm이하의 작은 전기회로 선폭으로 만든 트렌지스터가 잘 작동 안 할 수도 있습니다. 전류는 흐르지만 제어가 안돼 과전류를 유발할 수도 있죠. 이러한 이유와 기술적인 요소로 끝없이 개발되는것은 사실 불가능합니다.