반도체 제조 공정에서 방사선이 어느 부분에서 필요한지 궁금합니다.
최근 삼성전자 기흥사업장에서 방사선 피폭 사고를 당한 직원이 손가락 절단 수술을 앞두고 있는 것으로 알려졌다고 합니다.
이렇듯 반도체 제조 공정에서 방사선이 사용되는 것 같은데요.
방사선이 어느 부분에서 필요한지 궁금합니다.
안녕하세요. 홍기윤 전문가입니다.
반도체 공정에서 미세선폭을 형성하는 노광공정에서는 수 nm까지 패터닝을 위해서 방사선을 이용해서 노광을 하게 됩니다.
반도체 제조 공정에서 방사선은 주로 노광 공정에서 사용 됩니다.
이 공정에서는 웨이퍼 위에 반도체 회로를 그리기 위해 극자외선을 사용합니다. 특히 이 기술의 경우 7나노미터 이하의 미세 공정에 필수적입니다.
안녕하세요.
반도체 공정에서 방사선은 리소그래피나 검사 단계에서 활용됩니다. 리소그래피의 경우 자외선 또는 극자외선을 활용하며, 반도체 칩을 제조하는 과정에서 패턴을 웨이퍼에 전사하는 단계를 말합니다. 검사 및 분석의 경우 X-ray를 활용하여 내구 구조를 비파괴적으로 검사하거나, 전자현미경 등에 활용될 수 있습니다.
안녕하세요. 김재훈 전문가입니다.
반도체 제조 공정에서 방사선은 주로 이온 주입 단계에서 필요합니다. 이온 주입은 반도체 웨이퍼에 특정 불순물 원자를 주입하여 웨이퍼의 전기적 특성을 제어하는 과정입니다. 이 과정에서 방사선을 이용해 고속으로 가속된 이온을 웨이퍼에 주입하게 되는데, 이를 통해 반도체 소자의 도핑 농도를 조절하거나 특정 영역에 전기적 활성화를 유도할 수 있습니다. 이온 주입은 반도체 소자의 성능과 특성을 결정하는 중요한 공정으로 방사선이 핵심 역할을 합니다.